显影液（Developer）是溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域的一种化学溶剂。对于负显影工艺，显影液通常是一种有机溶剂，如二甲苯；对于正显影工艺，最普通的是四甲基氢氧化铵（TMAH）水溶液。早期正显影工艺使用氢氧化钾与水的混合物作为显影液 。现今工艺中主要使用TMAH水溶液，它被广泛用于I-线、248nm、193nm、193nm浸没式及EUV等光刻技术中。在供应方式上，显影液可通过厂务集中供应系统输送至匀胶显影设备 。
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